Norma ISA S88 aplicada al proceso de fabricación de películas delgadas de óxido de vanadio por Magnetrón Sputtering RF

Abstract

Para el desarrollo de este trabajo se realizó el análisis del Proceso de Fabricación de Películas Delgadas de VO2 sobre silicio (100) por Magnetrón Sputtering RF en FISBATEM y recurriendo a la ingeniería conceptual se identifican y organizan los diferentes sistemas que componen la planta de procesamiento; para este proceso se definieron los modelos de proceso, físico y de control procedimental; adicionalmente se definió el récipe maestro según lo establecido en la norma. Luego de organizar la información del proceso según este estándar, se fabricaron tres (3) lotes de películas con el procedimiento siguiendo la información dada por la Norma ISA S88 y dos (2) lotes con el procedimiento actual de fabricación en FISBATEM. Luego se evalúa la reproducibilidad en las propiedades eléctricas de este grupo de películas, mediante la comparación de resultados de las pruebas de Difracción de Rayos X y medida de la resistencia en función de la temperatura (RT).