Resumen:
Se crecieron películas delgadas de Dióxido de Vanadio VO2 utilizando un
sistema Magnetrón Sputtering R.F. a 13.56 MHz, sobre substratos de Zafiro
c(0001), SrTiO3 (100), Si (100) y vidrio. La temperatura del substrato durante el
crecimiento se mantuvo constante a 480 °C. Las películas fueron fabricadas en
atmósfera de Argón y Oxigeno a 9x10-3 mbar. Se observa el efecto del
substrato sobre las propiedades eléctricas mediante medidas de resistencia
eléctrica en función de la temperatura. Las películas presentan una transición
de fase aislante-metal y una variación de la resistencia de varios órdenes de
magnitud a 68 °C. Las propiedades morfológicas se analizaron mediante
microscopía de Fuerza Atómica y la estructura cristalina de las muestras se
determinó a través de difracción de rayos X. Las mejores propiedades de la
transición, estructurales y morfológicas se presentan en la muestra crecida
sobre un substrato de zafiro.
