Fabricación y caracterización de películas delgadas del sistema Ti1-xVxO2 mediante la técnica de Pulverización Catódica (Sputtering RF)

Abstract

En el desarrollo de este trabajo se fabricaron películas delgadas del sistema Ti1-xVxO2, dióxido de titanio (TiO2) dopado con vanadio (V), mediante la técnica de deposición física denominada Pulverización catódica por Magnetrón Sputtering RF en atmósfera controlada de Argón. El crecimiento de las películas se realizó en sustratos de Vidrio, Silicio (100), Al2O3 y sustratos de cuarzo, realizando estudios de tipo estructural y composicional de ellas mediante un análisis detallado de difracción de rayos X y espectroscopia en el infrarrojo. El target utilizado para la pulverización catódica fue construido a partir de un análisis previo del material en bloque del mismo sistema, consiguiendo así la mejor composición Ti0.95V0.05O2 sinterizado a 850°C y fabricado en el laboratorio de física de bajas temperaturas FISBATEM de la Universidad del Cauca. De esta manera se realizó el análisis del sistema en bloque con distintas concentraciones de vanadio x=0, x=0.03, x=0,05, x=0.08, x=0.1, considerando además los resultados obtenidos en un trabajo anterior en el que se trabajó con concentraciones de vanadio de x=0.125, x=0.20 y x=0.30. Se realizaron medidas difracción de rayos x, espectroscopia en el infrarrojo, magnetización en función de la temperatura y magnetización en función del campo aplicado con el fin de emplearlas como base referencial para la construcción del blanco.