Repositorio Universidad del Cauca

Norma ISA S88 aplicada al proceso de fabricación de películas delgadas de óxido de vanadio por Magnetrón Sputtering RF

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dc.contributor.author Castillo Castillo, Eduardo
dc.contributor.author Gómez Pérez, Oscar Daniel
dc.date.accessioned 2022-11-28T16:21:35Z
dc.date.available 2022-11-28T16:21:35Z
dc.date.issued 2012-05
dc.identifier.uri http://repositorio.unicauca.edu.co:8080/xmlui/handle/123456789/5749
dc.description.abstract Para el desarrollo de este trabajo se realizó el análisis del Proceso de Fabricación de Películas Delgadas de VO2 sobre silicio (100) por Magnetrón Sputtering RF en FISBATEM y recurriendo a la ingeniería conceptual se identifican y organizan los diferentes sistemas que componen la planta de procesamiento; para este proceso se definieron los modelos de proceso, físico y de control procedimental; adicionalmente se definió el récipe maestro según lo establecido en la norma. Luego de organizar la información del proceso según este estándar, se fabricaron tres (3) lotes de películas con el procedimiento siguiendo la información dada por la Norma ISA S88 y dos (2) lotes con el procedimiento actual de fabricación en FISBATEM. Luego se evalúa la reproducibilidad en las propiedades eléctricas de este grupo de películas, mediante la comparación de resultados de las pruebas de Difracción de Rayos X y medida de la resistencia en función de la temperatura (RT). en_US
dc.language.iso es en_US
dc.publisher Universidad del Cauca en_US
dc.subject Ingeniería conceptual en_US
dc.subject ISA S88 en_US
dc.subject Planta de procesamiento en_US
dc.subject Películas delgadas en_US
dc.subject Vanadio en_US
dc.title Norma ISA S88 aplicada al proceso de fabricación de películas delgadas de óxido de vanadio por Magnetrón Sputtering RF en_US
dc.type Trabajos de grado en_US


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