Resumen:
En este trabajo se fabricaron películas delgadas de VO2, sobre sustratos de Si(100) y vidrio, en una atmósfera de Argón, utilizando un target (blanco) de vanadio metálico , mediante la técnica de Magnetrón Sputtering R.F. a 13.56 MHz. Posteriormente se realizó un recocido “in situ“ de las películas, en una atmósfera de Argón y Oxígeno.
Se estudió la morfología y estructura de las películas de VO2, fabricadas sobre Si(100), mediante análisis de Microscopía de Fuerza atómica (AFM), y difracción de rayos X, además se realizó caracterización eléctrica y óptica, mediante medidas de resistencia eléctrica y transmitancia en función de la temperatura.
Las películas de VO2, crecidas sobre sustratos de Si(100) y vidrio mostraron cambios abruptos en la resistencia de dos órdenes de magnitud alrededor de 68ºC Las películas delgadas de VO2 fabricadas sobre vidrio mostraron una disminución abrupta de 35% en la transmitancia alrededor de 68ºC, al ser irradiadas con un láser de l=1550nm, propiedad que es utilizada para la fabricación de ventanas inteligentes.
