Efecto del substrato sobre las propiedades eléctricas de películas delgadas de dióxido de vanadio (VO2)

Abstract

Se crecieron películas delgadas de Dióxido de Vanadio VO2 utilizando un sistema Magnetrón Sputtering R.F. a 13.56 MHz, sobre substratos de Zafiro c(0001), SrTiO3 (100), Si (100) y vidrio. La temperatura del substrato durante el crecimiento se mantuvo constante a 480 °C. Las películas fueron fabricadas en atmósfera de Argón y Oxigeno a 9x10-3 mbar. Se observa el efecto del substrato sobre las propiedades eléctricas mediante medidas de resistencia eléctrica en función de la temperatura. Las películas presentan una transición de fase aislante-metal y una variación de la resistencia de varios órdenes de magnitud a 68 °C. Las propiedades morfológicas se analizaron mediante microscopía de Fuerza Atómica y la estructura cristalina de las muestras se determinó a través de difracción de rayos X. Las mejores propiedades de la transición, estructurales y morfológicas se presentan en la muestra crecida sobre un substrato de zafiro.