Fabricación de películas delgadas del sistema Tb1-XAlXMnO3, utilizando la técnica Pulverización Catódica (Sputtering)

Abstract

Se fabricaron películas delgadas del sistema Tb1-xAlxMnO3, manganita de Terbio (TbMnO3) dopado con aluminio (Al), por el método de Pulverización catódica Magnetrón Sputtering RF en atmósfera de Argón. El crecimiento de las películas se realizó en sustratos de Vidrio, Silicio (100), Cuarzo, SrTiO3 y LaALO3. Se realizaron estudios estructurales y composicionales de las películas crecidas mediante análisis de difracción de rayos X y espectroscopia en el infrarrojo. El target utilizado para la pulverización catódica estaba compuesto por el material policristalino en bloque Tb0.7Al0.3MnO3 sinterizado a 1200°C y fabricado en el laboratorio de física de bajas temperaturas FISBATEM de la Universidad del Cauca. Adicionalmente el material en bloque Tb1-xAlxMnO3 con concentraciones x= 0, 0.05, 0.07, 0.1, 0.2 y 0.3 fueron sintetizados, caracterizados y estudiados como punto de partida para este trabajo, esto con el fin de determinar la estructura, composición y propiedades magnéticas y eléctricas del TbMnO3 dopado con aluminio para escoger el material con mejores propiedades y utilizarlo como blanco del sputtering. Las muestras en bloque inicialmente sintetizadas fueron investigadas por difracción de rayos X, espectroscopia en el infrarrojo, microscopia electrónica de barrido, magnetización en función de la temperatura, magnetización en función del campo aplicado y medidas de resistencia en función de la temperatura.